東京大学生産技術研究所 町田研究室

瀬尾君(博士2年)の論文がApplied Physics Lettersに掲載されました

“Selective etching of hexagonal boron nitride by high-pressure CF4 plasma for individual one-dimensional ohmic contacts to graphene layers”
Y. Seo, S. Masubuchi, E. Watanabe, M. Onodera, R. Moriya, K. Watanabe, T. Taniguchi, and T. Machida
Appl. Phys. Lett. 117, 243101-1-5 (2020)